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介質(zhì)研磨法介質(zhì)研磨法是先將藥物與加有穩(wěn)定劑的分散介質(zhì)（例如氧化鋯珠）混勻，再一起放入介質(zhì)研磨機(jī)的研磨室內(nèi)，研磨機(jī)快速運(yùn)轉(zhuǎn)，使藥物粒子與氧化鋯珠研磨介質(zhì)、研磨室內(nèi)壁、藥物粒子之間發(fā)生猛烈的碰撞，從而得到納米級(jí)別的藥物粒子。混合物中的小顆粒藥物粒子通過濾網(wǎng)進(jìn)入再循環(huán)室，大顆粒和研磨介質(zhì)則留在研磨室內(nèi)。

在循環(huán)室內(nèi)的藥物粒子一旦達(dá)到所需的納米級(jí)別就被取出，否則應(yīng)繼續(xù)用氧化鋯珠研磨。研磨介質(zhì)一般為高交聯(lián)聚苯乙烯樹脂、超致密陶瓷介質(zhì)、玻璃珠  、氧化鋯珠或賽諾的氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯珠。研磨介質(zhì)的尺寸及數(shù)量、研磨速度、研磨時(shí)間等因素大都會(huì)影響藥物粒子的粒徑  。

應(yīng)用介質(zhì)研磨法制備出平均粒徑為165nm的阿奇霉素納米粒子，研磨前后藥物的晶型和化學(xué)結(jié)構(gòu)沒有明顯改變，納米晶的溶出速率明顯增大，在10min時(shí)，以十二烷基磺酸鈉（SDS）為表面活性劑的納米晶的累計(jì)溶出率可達(dá)到75％，是同一時(shí)間原料藥溶出量的7.5倍左右；在45min時(shí)納米晶可基本完全溶解，而同樣條件下原料藥平衡時(shí)的溶出總量僅為其21％左右。

采用介質(zhì)研磨法制備尼莫地平納米混懸劑，粒徑為（261.2±5.7）nm，X射線粉末衍射和差示掃描量熱分析結(jié)果顯示納米凍干粉中藥物晶型狀態(tài)沒有改變，但與原料藥相比，納米凍干粉的飽和溶解度提高了近60倍。本法具有適用范圍廣、制備過程簡單、適用于工業(yè)生產(chǎn)、所制粒子粒徑分布窄、制備過程溫度可控等優(yōu)點(diǎn)。缺點(diǎn)是在研磨過程中有可能混入一定量的研磨介質(zhì)，用藥后，可能會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重的不良后果，所以該法不適用于制備注射用納米混懸劑，已上市的基于介質(zhì)研磨法的納米晶藥物都是口服給藥。

在工業(yè)化大生產(chǎn)中，為了獲得平均粒徑小于200nm且分散均勻的分散體系，研磨時(shí)間一般為30～60min  。在現(xiàn)有的研磨介質(zhì)中，賽諾氧化鋯珠在研磨的過程中造成的污染較小，而且在長期研磨的情況下，氧化鋯珠的損耗比較低，所以長期使用還可以節(jié)省不小的成本，尤其是在使用量比較大的情況下，效果更顯著。一般應(yīng)根據(jù)藥物性質(zhì)、球磨機(jī)的線速度及運(yùn)行時(shí)間來選擇經(jīng)濟(jì)有效的尺寸和規(guī)格。